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太原理工大学学报投稿模板

来源:网络收集 时间:2026-09-04
导读: 太原理工大学学报投稿模板 太原理工大学学报请单栏排版 TiO2纳米颗粒的制备、光催化性能及羟基自由基研究? 标题题目应恰当简明地反映论文内容,精确点明本文的独创性内容 第一作者1 ,2 ,第二作者2 (1.XXXX大学 XX学院,山西太谷 030801; 2 XXXX大学 XXXX

太原理工大学学报投稿模板

太原理工大学学报请单栏排版

TiO2纳米颗粒的制备、光催化性能及羟基自由基研究?

标题题目应恰当简明地反映论文内容,精确点明本文的独创性内容

第一作者1 ,2 ,第二作者2

(1.XXXX大学 XX学院,山西太谷 030801; 2 XXXX大学 XXXX学院,山西太原 030006)

摘要:摘要内容应包括目的、方法、结果和结论;缩写词第一次出现时请用全称;不要出现公式、图表和参考文献序号。针对金属层间介质以及MEMS等对氧化硅薄膜的需求,采用等离子增强型化学气相淀积(PECVD)技术,以SiH4和N2O为反应气体,低温制备了SiO2薄膜。利用椭偏仪、应力测试系统对SiO2薄膜的厚度、折射率、均匀性以及应力等性能指标进行了测试,探讨了射频功率、反应腔室压力、气体流量比等关键工艺参数对SiO2薄膜性能的影响。结果表明:SiO2薄膜的折射率主要由N2O/SiH4的流量比决定,而薄膜均匀性主要受电极间距以及反应腔室压力的影响。通过优化工艺参数,低温260℃下制备了折射率为1.45~1.52(中文环境下,用波浪线表示数字范围),均匀性为±0.64%,应力在 ?350~?16 MPa(量、单位和符号严格执行国家标准,不可使用非法定计量单位;数字与单位之间空一格)可控的SiO2薄膜。采用该方法制备的SiO2薄膜均匀性好,结构致密,沉积速率快,沉积温度低,且应力可控,可广泛应用于集成电路以及MEMS器件中。

关键词:二氧化钛纳米颗粒;聚丙烯酰胺凝胶法;羟基自由基;光催化活性

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关键词应能够反映论文的主题内容, 应精确、包含热点信息;注意避免与正文标题重复太多, 以增大论文通过不同角度被检索到的可能性;以3~8个为宜,用分号分隔

中图分类号:文献标志码:A 文章编号:1672-6030(2013)00-0000-00

(可列出一个或一个以上中图分类号,按《中国图书馆分类法》确定)

Preparation, Photocatalytic Properties and Photogenerated

Hydroxyl Radicals of TiO2 Nanoparticles

给出英文标题, 内容应与中文对应, 语序可根据中英文逻辑习惯方面的不同进行相应的调整

(实词首字母大写)

WEI Qin1,2,WU Dan2, ZHANG Xu zhen2, LI Chao2

(姓全部大写)

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Abstract: To meet the demand of inter-metal dielectric (IMD) 缩写词第一次出现时请用全称(并将缩写写在全称后面的括号中)layers and micro electro mechanical systems (MEMS), silicon dioxide films

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