光学薄膜工艺基础知识培训

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工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为：

一. 基片材料

1. 膨胀系数不同 热应力的主要 原因 ;

2. 化学亲和力不同 影响膜层附着力和牢固度;

3. 表面粗糙度和缺陷 散射的主要来源。

二. 基片清洁

残留在基片表面的污物和清洁剂将导致：

1. 膜层对基片的附着力差;

2. 散射吸收增大抗激光损伤能力差;

3. 透光性能变差。

三. 离子轰击的作用

提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力;提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。

四. 初始膜料

化学成分(纯度/杂质种类)、物理状态(粉/块)和预处理(真空烧结/锻压)影响膜层结构和性能

五. 蒸发方法

不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、附着力有差异。

六. 蒸发速率

速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、应力、附着力有明显影响。

七. 真空度

对膜层聚集密度，化学成分有影响，从而使膜层的折射率、硬度，牢固性发生变化。

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八. 蒸气入射角

影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。

一般应限制在30°之内。