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Essential Macleod光学薄膜软件简要使用说明

来源:网络收集 时间:2026-10-06
导读: 简要介绍光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod Essential Macleod光学薄膜设 计与分析软件简要使用说明 利方达有限公司 简要介绍光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod 系统需要 完全与Microsoft Windows 操作系统兼容, Pentium 处理器 建议硬盘空间

简要介绍光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod

Essential Macleod光学薄膜设 计与分析软件简要使用说明

利方达有限公司

简要介绍光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod

系统需要 完全与Microsoft® Windows® 操作系统兼容, Pentium 处理器 建议硬盘空间: 20-25Mb 内存:128Mb

简要介绍光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod

软件介绍Essential Macleod 核心麦克劳德是一套完备的光学 薄膜分析与设计的软件包,它能在微软视窗操作系统下运 行, 并且具有真正的多文档操作界面。它能满足光学镀 膜设计中的各种要求。既可以从头开始设计,也可以优化 已有的设计;可以观测在设计生产中的误差,也可以导出 薄膜的光学常数,是当今市场上最完善的薄膜设计及分析 软件。

简要介绍光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod

软件特点 使用简便: 常见的用户界面;广泛的使用剪贴板;高质 量曲线;真正的多文档界面; 用户自定义单位:任意定义波长、频率、厚度、时间的单 位; 逆向工程:n、k值导出;非均匀性和吸收,堆砌密度的变 化;固定缩放比例;灵活的限制性优化。 优化及合成:Optimac法;Simplex法;模拟退火法; 目标:对包括颜色的所有的参数确定目标清单;从外部源 输入目标数据;链接; 分析和设计工具:导纳图表;反射系数图表;绝对电场幅 度图;非极化边缘滤波片设计工具;对称平衡层(Herpin) 计算;

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软件特点 性能计算:反射系数;透射系数;反射相位;透射相位; 密度;偏振角,偏振相位;群时延;群时延色散;三价色 散;一价、二价、三价导数。公差同波长、频率、入射角、 膜厚关系函数; 颜色:在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源;用 户可定义的观测; 材料:提供标准的材料数据库;多数据库,如:不同的温 度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统;材 料数据容易输入;数据图标显示;强大的编辑器;

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设计工具Essential Macleod提供一个多样化的工具支持设计过 程. 编辑工具使设计操作更容易。这些工具包括:膜层逆 转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的角度, 不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。强大的工具编辑提供必 要的规格、材料数据、表格和图表。 设计工具还包括透射滤光器设计、非极性化边缘滤光 器和平衡膜层(Herpin)参数的计算。透射滤光器工具计 算对指定的金属膜可能的透射率和相应1/4波长非导电性 介质膜的滤光的厚度要求。它也可以用在简单的测量特殊 吸收材料在规定厚度的最大透光率。非极性化边缘滤光器 工具创建一个五层两种材料的对称结构的初始设计,最外 的膜层随后能被优化成相配的滤光设计。

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性能计算Essential Macleod 提供了一套完备的性能计算功能。 除了一般反

射和透射计算外,还包括:密度﹑吸收率﹑椭 偏参数﹑超快参数 ( 群时延 ﹑群时延色散﹑三阶色散 ) 和 光的色散,此外,也可以应用于色彩计算。公差计算可使 用户判定厚度微小变化对设计影响。

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分析工具分析工具包括导纳图标法、环性(反射系数)图标法、电 场图法。电场图计算绝对的电场幅度,提供了几个膜层能 量吸收的比较信息,因此评估有关的可能损失,或者同一 膜层在不同波长下的能量吸收。导纳轨迹法以及环形图法 则可帮使用者了解设计是如何进行的, 通过导纳或者复 振幅系数的从系统中的后层到前层的转换,这种方法将不 同膜层的作用转换至一层单层膜,由此可以被视做一套完 整的直观记录方法。

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优化 (Refinement)Essential Macleod 提供了 Optimac 、非线性纯化法 ( Nonlinear Simplex ) 、模拟退火法( Simulated Annealing ) 等优化方法。在一般条件下,OptiMac 功能 强大,推荐使用这种优化法;而 Simplex 则较为快速和稳 定;作为一种统计型方法, Simulated Annealing 在阻抗 型的情况里会很有效,但相对耗时。在优化的工程中,我 们可以锁定(Lock)某些膜层,使其厚度无法改变。 Linking可以步骤式改变厚度。优化目标可以以需计算的性 能参数来定义,例如:颜色,波长(或频率)、入射角、 以及公差。对象连接使得更加复杂的优化功能得以实现。 对于不同波长和不同入射角的情况而言,目标发生器可协 助创建多目标。

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合成(synthesis)Optimac 技术也可以在合成模块里操作,为了达到 需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。合成也可 用于改善现有的设计,或者从一个材料清单和规格里产生 设计。 Optimac是可存档的。它记录优化设计的完整历史, 从而允许在膜系的性能和复杂性间寻找平衡点。

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逆向工程Essential Macleod 可对在制造过程中生成的误差提 供鉴定支持;这方面支持是通过单一优化法的改进而达到 的。单一优化法可对折射率和厚度进行优化。通过各种方 式对不同方面的约束,分析找出制造过程中的误差和其他 问题。这些约束条件可以逐渐改变或者取消,以得到最后 的解决方案,并确定可能误差的性质和大小。而折射率的 变化是由堆砌密度改变来表征。

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n、k值导出虽然 Essential Macleod 提供了一套完整的材料数据 库,但是通常对于某一特定的镀膜厂家,数据库中材料的 光学参数同实际薄膜的参数不尽相同的。 针对这种情况, 根据分光光度计对测试薄膜的折射率和透射率的测量结果, N&K 导出法可方便地导出 n 与 k 的值。这里采用的包络 线方法十分稳定。这种方法采用“全透射”,“全反射” 或者透射

和反射的数据。根据得到的数据,可以检测出膜 层的非均匀性,吸收或者同时两方面的结果。

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用户定义单位单位是用户经常碰到的一个问题,但是在Essential Macleod 不是问题,单位可自定义选择。如:频率可以采 用电子伏特、千兆赫、波数;波长可选埃、纳米、微米甚 至微英寸。

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颜色计算 颜色计算提供最通用的颜色空间: Tristimulus Chromaticity CIE L*a*b* CIE L*u*v* Hunter Lab 光源的挑选可根据需要预先定义。 CIE 1931 和 1964颜色 匹配功能也包括在里面,其次你可以定义你要求的其他颜 色。颜色也可以作为一个优化和合成的目标列入清单,计 算透射和反射颜色。

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光学组件(Stack)多数镀膜光学元件最少有两个面,一个滤光器组件或 混合膜层透镜有许多面,基底可能吸收某些波长的光, Essential Macleod 有一个计算多膜层和多基底系列组件 性能的工具。一个有效的编辑器将元件组和成一个堆,它 由多组镀膜和无镀层的吸收滤光片组成,表面可以是平行 或者楔型。材料的表现不是总在最理想状态并且光学 …… 此处隐藏:2071字,全部文档内容请下载后查看。喜欢就下载吧 ……

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