第四章 薄膜制备物理方法

材料合成与制备方法

4.2 薄膜制备的物理方法

于刚

石家庄铁道大学材料科学与工程学院

2011.9.27

材料合成与制备方法

4.2 薄膜制备的物理方法

材料合成与制备方法

PVD技术

基本原理

材料合成与制备方法

PVD的工程分类

材料合成与制备方法

薄膜制备的物理方法

4.2.1 真空蒸发沉积（蒸镀）

概念

材料合成与制备方法

PVD技术

4.2.1 真空蒸发沉积（蒸镀）

蒸发条件

物理机制

怎样实现蒸发条件

材料合成与制备方法

PVD技术

4.2.1 真空蒸发沉积（蒸镀）

材料分类

材料合成与制备方法

PVD技术

4.2.1 真空蒸发沉积（蒸镀）

残余气体的影响

材料合成与制备方法

PVD技术

4.2.1 真空蒸发沉积（蒸镀）

蒸发沉积装置

材料合成与制备方法

4.2.1 真空蒸发沉积（蒸镀）

材料合成与制备方法

真空镀膜设备

材料合成与制备方法

4.2.2 溅射沉积技术

基本概念和原理基本概念和原理 溅射与溅射镀膜

材料合成与制备方法

4.2.2 溅射沉积技术

基本概念和原理基本概念和原理 溅射与溅射镀膜

材料合成与制备方法

材料合成与制备方法

4.2.2 溅射沉积技术

基本概念和原理基本概念和原理 溅射与溅射镀膜

材料合成与制备方法

4.2.2 溅射沉积技术

基本概念和原理基本概念和原理 溅射与溅射镀膜

蒸发和溅射的比较