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实验四 PIN光电二极管特性测试

来源:网络收集 时间:2026-07-19
导读: 实验四 PIN光电二极管特性测试 一、 实验目的 1、学习掌握PIN光电二极管的工作原理 2、学习掌握PIN光电二极管的基本特性 3、掌握PIN光电二极管特性测试的方法 4、了解PIN光电二极管的基本应用 二、 实验内容 1、PIN光电二极管暗电流测试实验 2、PIN光电二极

实验四 PIN光电二极管特性测试

一、 实验目的

1、学习掌握PIN光电二极管的工作原理 2、学习掌握PIN光电二极管的基本特性 3、掌握PIN光电二极管特性测试的方法 4、了解PIN光电二极管的基本应用 二、 实验内容

1、PIN光电二极管暗电流测试实验 2、PIN光电二极管光电流测试实验 3、PIN光电二极管伏安特性测试实验 4、PIN光电二极管光电特性测试实验 5、PIN光电二极管时间响应特性测试实验 6、PIN光电二极管光谱特性测试实验 三、 实验器材

1、光电探测综合实验仪 1个 2、光通路组件 1套 3、光照度计 1台 4、PIN 光电二极管及封装组件 1套 5、2#迭插头对(红色,50cm) 10根 6、2#迭插头对(黑色,50cm) 10根 7、三相电源线 1根 8、实验指导书 1本 9、示波器 1台 四、 实验原理

光电探测器PIN管的静态特性测量是指PIN光电二极管在无光照时的P-N结正负极、击穿电压、暗电流Id以及在有光照的情况下的输入光功率和输出电流的关系(或者响应度),光谱响应特性的测量。

图5-1 PIN光电二极管的结构和它在反向偏压下的电场分布

图5-1是PIN光电二极管的结构和它在反向偏压下的电场分布。在高掺杂P型和N型半导体之间生长一层本征半导体材料或低掺杂半导体材料,称为I层。在半导体PN结中,掺杂浓度和耗尽层宽度有如下关系:

LP/LN=DN/DP

其中:DP和DN 分别为P区和N区的掺杂浓度;LP和LN分别为P区和N区的耗尽层的宽度。在PIN中,如对于P层和I层(低掺杂N型半导体)形成的PN结,由于I层近于本征半导体,有

DN<

即在I层中形成很宽的耗尽层。由于I层有较高的电阻,因此电压基本上降落在该区,使得耗尽层宽度W可以得到加宽,并且可以通过控制I层的厚度来改变。对于高掺杂的N型薄层,产生于其中的光生载流子将很快被复合掉,因此这一层仅是为了减少接触电阻而加的附加层。

要使入射光功率有效地转换成光电流,首先必须使入射光能在耗尽层内被吸收,这要求耗尽层宽度W足够宽。但是随着W的增大,在耗尽层的载流子渡越时间τcr也会增大,τcr与W的关系为

τcr=W/v

式中:v为载流子的平均漂移速度。由于τcr 增大,PIN的响应速度将会下降。因此耗尽层宽度W需在响应速度和量子效率之间进行优化。

如采用类似于半导体激光器中的双异质结构,则PIN的性能可以大为改善。在这种设计中,P区、N区和I区的带隙能量的选择,使得光吸收只发生在I区,完全消除了扩散电流的影响。在光纤通信系统的应用中,常采用InGaAs材料制成I区和InP材料制成P区及N区的PIN光电二极管,图3为它的结构。InP材料的带隙为1.35eV,大于InGaAs的带隙,对于波长在1.3~1.6um范围的光是透明的,而InGaAs的I区对1.3~1.6um的光表现为较强的吸收,几微米的宽度就可以获得较高响应度。在器件的受光面一般要镀增透膜以减弱光在端面上的反射。InGaAs的光探测器一般用于1.3um和1.55um的光纤通信系统中。

图5-2 InGaAs PIN光电二极管的结构

从光电二极管的工作原理可以知道,只有当光子能量hf大于半导体材料的禁带宽度Eg才能产生光电效应,即

hf>Eg

因此对于不同的半导体材料,均存在着相应的下限频率fc或上限波长λc,λc亦称为光电二极管的截止波长。只有入射光的波长小于λc时,光电二极管才能产生光电效应。Si-PIN的截止波长为1.06um,故可用于0.85um的短波长光检测;Ge-PIN和InGaAs-PIN的截止波长为1.7um,所以它们可用于1.3um、1.55um的长波长光检测。

当入射光波长远远小于截止波长时,光电转换效率会大大下降。因此,PIN光电二极管是对一定波长范围内的入射光进行光电转换,这一波长范围就是PIN光电二极管的波长响应范围。

响应度和量子效率表征了二极管的光电转换效率。响应度R定义为

R=IP/Pin 其中:Pin 为入射到光电二极管上的光功率;IP 为在该入射功率下光电二极管产生的光电流。R的单位为A/W。

量子效率η定义为

η=光电转换产生的有效电子-空穴对数/入射光子数 =(IP/q)/(Pin/hf) = R(hf/q)

响应速度是光电二极管的一个重要参数。响应速度通常用响应时间来表示。响应时间为光电二极管对矩形光脉冲的响应——电脉冲的上升或下降时间。响应速度主要受光生载流子的扩散时间、光生载流子通过耗尽层的渡越时间及其结电容的影响。

光电二极管的线性饱和指的是它有一定的功率检测范围,当入射功率太强时,光电流和光功率将不成正比,从而产生非线性失真。PIN光电二极管有非常宽的线性工作区,当入射光功率低于mW量级时,器件不会发生饱和。

无光照时,PIN作为一种PN结器件,在反向偏压下也有反向电流流过,这一电流称为PIN光电二极管的暗电流。它主要由PN结内热效应产生的电子一空穴对形成。当偏置电压增大时,暗电流增大。当反偏压增大到一定值时,暗电流激增,发生了反向击穿(即为非破坏性的雪崩击穿,如果此时不能尽快散热,就会变为破坏性的齐纳击穿)。发生反向击穿的电压值称为反向击穿电压。Si-PIN的典型击穿电压值为100多伏。PIN工作时的反向偏置都远离击穿电压,一般为10~30V。 五、 实验准备

1、实验之前,请仔细阅读光电探测综合实验仪说明,弄清实验箱各部分的功能及拨位开关的意义;

2、当电压表和电流表显示为“1_”是说明超过量程,应更换为合适量程; 3、连线之前保证电源关闭。

4、实验过程中,请勿同时拨开两种或两种以上的光源开关,这样会造成实验所测试的数据不准确。

六、 实验步骤与数据记录 1、光电二极管暗电流测试

实验装置原理框图如图6-3所示,但是在实际操作过程中,光电二极管和光电三极管的暗电流非常小,只有nA数量级。这样,实验操作过程中,对电流表的要求较高,本实验中,采用电路中串联大电阻的方法,将图6-3中的RL改为20M,再利用欧姆定律计算出支路中的电流即为所测器件的暗电流,如图12所示。

图5-3

(1)组装好光通路组件,将照度计显示表头与光通路组件照度计探头输出正负极对应相连(红为正极,黑为负极),将光源调制单元J4与光通路组件光源接口使用彩排数据线相连。 (2)“光源驱动单元”的三掷开关BM2拨到“静态特性”,将拨位开关S1,S2,S3,S4,S5,S6,S7均拨下。

(3)“光照度调节”调到最小,连接好光照度计,直流电源调至最小,打开照度计,此时照度计的读数应为0。

(4)选用直流电源2,将电压表直接与电源两端相连,打开电源调节直流电源电位器,使得电压输出为15V,关闭电源。

(注意:在下面的实验操作中请不要动电源调节电位器,以保证直流电源输出电压不变) (5)按图2-2所示的电路连接电路图,负载RL选择RL21=20M。

(6)打开电源开关,等电压表读数稳定后测得负载电阻RL上的压降V暗,则暗电流L暗=V暗/RL。所得的暗电流即为偏置电压在15V时的暗电流.

(注:在测试暗电流时,应先将光电器件置于黑暗环境中30分钟以上,否则测试过程中电压表需一段时间后才可稳定)

(7)实验完毕,直流电源调至最小,关闭电源,拆除所有连线。 数据:V= V R= M 得 L= nA 2、PIN光电二极管光电流测试 实验装置 …… 此处隐藏:2686字,全部文档内容请下载后查看。喜欢就下载吧 ……

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