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纯化水系统的验证及其要求(4)

来源:网络收集 时间:2025-09-23
导读: ● 产水水质降低10~15%,透盐率增加10~15%; ● 给水压力增加10~15%; ● 系统各段之间压差明显增加(可能没有仪表检测该参数)。 清洗单元系统一般采取如下六个步骤: 1.配制清洗液 将药剂加入洁净的水中,

● 产水水质降低10~15%,透盐率增加10~15%; ● 给水压力增加10~15%;

● 系统各段之间压差明显增加(可能没有仪表检测该参数)。 清洗单元系统一般采取如下六个步骤: 1.配制清洗液

将药剂加入洁净的水中,且配制用水必须是去除硬度、不含过度金属和余氯的RO产品水或去离子水。保证溶液要彻底混和均匀,并且把温度和PH调到所需要的值。 2.低流量输入清洗液

首先用清洗水泵混合一遍清洗液,预热清洗液时应以低流量。然后以尽可能低的清洗液压力置换元件内的原水,其压力仅需达到足以补充进水至浓水的压力损失即可,即压力必须低到不会产生明显的渗透产水。低压置换操作能够最大限度的减低污垢再次沉淀到膜表面,视情况而定,排放部分浓水以防止清洗液稀释。 3.循环

当原水被置换掉后,浓水管路中就应该出现清洗液,让清洗液循环回清洗水箱并保证清洗液温度恒定。 4.浸泡

停止清洗泵的运行,让膜元件完全浸泡在清洗液中。有时元件浸泡1小时就足够了,但对于顽固的污染物,需要延长浸泡时间,如浸泡10~15小时或浸泡过夜。为了维持浸泡过程的温度,可采用很低的循环流量(约为表1所示流量的10%)。 5、高流量水泵循环

按表1所列的流量循环30~60分钟。高流量能冲洗掉被清洗液洗下来的污染物。如果污染严重,请采用高于表1所规定的50%的流量将有助于清

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洗,在高流量条件下,将会出现过高压降的问题,单元件最大允许的压降为1bar(15psi),对多元件压力容器最大允许压降为3.5bar(50psi),以先超出为限。 6、冲洗

用清洁水(去除硬度、不含金属离子如铁和氯的RO产品水或去离子水)进行低压冲洗,冲洗系统内的清洗液可以用预处理的合格产水,除非存在腐蚀问题。为了防止沉淀,最低冲洗温度为20oC。

附图一、系统工艺流程图 附图二、系统电控原理图

附图三、系统电控正面布置及端子图

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