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福州大学集成电路版图设计实验报告(2)

来源:网络收集 时间:2026-08-12
导读: 《集成电路版图设计》实践报告 LVS检测: 6 《集成电路版图设计》实践报告 II.CMOS差分放大器部分: CMOS差分放大器的原理图: 在该电路中,M1、M2为有源负载,M3、M4为电流源,M5为电流源器件。 ①线宽、电流分析

《集成电路版图设计》实践报告

LVS检测:

6

《集成电路版图设计》实践报告

II.CMOS差分放大器部分:

CMOS差分放大器的原理图:

在该电路中,M1、M2为有源负载,M3、M4为电流源,M5为电流源器件。 ①线宽、电流分析:

该电路为CMOS差分共源放大器,电路所需要的最大电流为5mA,根据典型工艺电流密度得出连线的宽度为5um。其中电源、地和偏置为大电流路径,输入端为小电流路径,因此输入线宽为2um,电源、地线宽为10um。对于大电流路径可以让电流源从顶端流入以分散电流,并有效降低电阻。

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《集成电路版图设计》实践报告

③匹配规则分析:

在设计版图的过程中,应该把匹配器件相互靠近放置,使期间保持同一方向,并选择一个中间值作为根部件。由于该电路是差分放大电路,因此应使得差分布线一致并尽量使得每一个器件对称。

在本次版图设计中使用的器件宽度较大,对于M3、M4L= 1uW=100u

并将每个器件分成9块每一个的W为11.11u,以使得电路的对称性较好,同时对于电流镜M3与M4,采用共心—四方交叉的匹配方式,使其对称性更好:

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《集成电路版图设计》实践报告

在画版图的过程中还应该注意差分布线的一致性,以便提高电路的对称性

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《集成电路版图设计》实践报告

④器件布局及其他注意事项:

根据对称性的要求,将电流源M5进行器件分割,M3、M4采用共心交叉匹配法,得到整个版图器件布局图:

在PMOS器件上需要添加N阱接触,而对于NMOS则应添加衬底接触,并且在添加N阱衬底时可将PMOS与NMOS包围,以保证衬底很好的接地并且具有一定的隔离作用

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